（观察者网讯）

在台积电宣告7纳米强效版及5纳米导入EUV（极紫外光）微影技能且量产后，近来三星决定向荷兰ASML订货15台EUV设备，此外英特尔、美光、海力士也规划选用EUV技能，导致人多粥少，全球半导体职业掀起争抢EUV设备大战。

据《韩国先驱报》15日报导，为达到2030年成为全球榜首半导体大厂的方针，并逾越晶圆代工厂商台积电，抢占未来2到3年的5G商用化所带来的半导体市场需求，三星已向全球微影曝光设备大厂ASML订货15台先进EUV设备，价值3万亿韩元，约合181亿人民币，交给分三年进行。

报导截图

三星电子自2005年进入晶圆代工范畴，现在现已7nm EUV技能已完成量产。三星方案，6nm制程在2019年下半年开端量产，5nm制程在2020年上半年量产，3nm制程估计在2021年进入量产。

而三星和台积电在先进制程的比赛一向进行，台积电日前已宣告，7纳米强效版制程抢先业界导入EUV微影技能，并已帮忙客户产品很多进入市场，且2020年上半年量产的5纳米也将导入EUV制程。

别的，英特尔EUV方案的负责人Britt Turkot年中表明，EUV技能现已准备好，而且投入很多的技能开发。内存大厂美光、海力士也方案导入EUV技能。

为难的是，现在全球供给EUV设备的企业仅ASML一家，业界预估ASML一年仅能出产约30台EUV设备，在各大厂相继投入之下，构成设备机台一机难求，排队等设备现象。

ASML最新发布的第三季度财报中显现，该季度他们仅交给了7台EUV光刻机，但当季接到的订单已达23台，发明了历史记录，而三星此次订货则将耗费ASML近半年EUV设备产能。

据了解，由于EUV极短波长 13.5纳米具有强力光线的技能，可以更完美地解析先进制程的规划，削减芯片出产过程及光罩层数，高速高频，对芯片微缩、低功耗要求高，成为连续摩尔定律重要技能。

不过，要驾御如此杂乱且贵重的体系来制作大批芯片却是一件难事，三星虽最早宣告7纳米制程导入EUV，但从前即传出出产芯片良率及产值缺乏。

台积电表明，7纳米一开端未导入EUV，便是由于新技能导入制程需求阅历一段学习曲线。台积电称，在7纳米强效版成功学习经历，未来可顺畅导入5纳米制程。

数据显现，2019年Q3全球晶圆代工工业台积电以50.5%稳坐榜首，而近年尽力开展先进制程的三星电子以18.5%的市占率位居第二，但三星很显然不肯一向位居次席，一向在扩展半导体出资。

三星本年4月发布一项高达133万亿韩元的体系IC出资，其间60万亿韩元将用于晶圆代工设备出资。上一年8月，三星曾宣布3年180万亿韩元出资，其间90万亿到100万亿韩元将用于半导体设备。

业内人士泄漏，为了逾越台积电，三星不只会添加设备出资，还会经过供给技能竞争力来招引客户。